Huace 1400-XY 1400℃高溫原位光學(xué)位移加熱臺(tái)

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Huace 1400-XY 1400℃高溫原位光學(xué)位移加熱臺(tái)由華測(cè)儀器生產(chǎn)，可實(shí)現(xiàn)室溫至 1400℃穩(wěn)定可控加熱，具備光學(xué)觀測(cè)兼容性。設(shè)備采用耐高溫陶瓷加熱體與高溫阻絲加熱結(jié)構(gòu)，搭配 PID 控溫算法與高準(zhǔn)度 S 型熱電偶，確保溫度準(zhǔn)確調(diào)控與長(zhǎng)期穩(wěn)定。配備 XY 雙向可調(diào)載樣臺(tái)，位移 ±6mm，精度 0.01mm，可在高溫過(guò)程中靈活調(diào)整樣品觀測(cè)位置，適用于材料科學(xué)、冶金、陶瓷、地質(zhì)及半導(dǎo)體等領(lǐng)域，用于高溫下樣品相變、熱膨脹、燒結(jié)、熔化等過(guò)程研究。

主要技術(shù)指標(biāo)

加熱方式：電阻加熱（高溫阻絲）

溫度范圍：室溫~1400℃

溫度穩(wěn)定性：±0.1℃

溫度分辨率：0.1℃

升溫速率：1~150℃/min（可定點(diǎn) / 程序段控溫）

控溫方式：PID準(zhǔn)確控溫

載樣臺(tái)材質(zhì)：陶瓷

可達(dá)樣品高度：4mm

樣品臺(tái)位移：X/Y 軸 ±6mm，精度 0.01mm

光路：反射光路

上視窗尺寸：Φ3mm

腔室環(huán)境：真空/惰性氣氛（Ar、N?）/大氣

外殼冷卻：循環(huán)水

選配：真空系統(tǒng)、定制水循環(huán)系統(tǒng)、定制軟件控溫系統(tǒng)