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高真空晶圓熱處理退火裝置

簡要描述:華測儀器Huace-800G高真空晶圓熱處理退火裝置是在真空環(huán)境下,對半導體晶圓進行高溫熱處理的設備,主要用于消除應力、優(yōu)化材料結構、增加電學性能。

  • 產品型號:Huace-800G
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2026-09-17
  • 訪  問  量:16

詳細介紹

品牌華測儀器產地類別國產
應用領域能源,航空航天,汽車及零部件,電氣,綜合

華測儀器Huace-800G高真空晶圓熱處理退火裝置

價格僅供參考,如需獲取更詳盡的產品技術規(guī)格書、定制方案或應用案例,歡迎致電我司技術工程師


Huace-800G高真空晶圓熱處理退火裝置由華測儀器生產,設備的反射鏡采用高準度曲率設計,通過五軸加工系統(tǒng)制造,以維持更高的反射效率。反射鏡主要分為圓形和拋物線型兩種,可滿足不同材料在不同溫度控制條件下的測試需求。


產品優(yōu)勢

高速加熱與降溫方式

高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體可配置水冷系統(tǒng),增設氣體降溫裝置,可實現快速冷 卻。

溫度高準度控制

過紅外鍍金聚焦爐和溫度控制器的組合使用,可以準確控制樣品的溫度(遠比普通加溫方式)。此外,降溫速度和保持在不同溫度下可提供高準度

不同環(huán)境下的加熱與降溫

加熱/降溫可用真空、氣氛環(huán)境、低溫(高純度性氣體 靜態(tài)或流動)操作簡單,使用石英玻璃制成。紅外線可傳到加熱/ 降溫室。


產品參數

產品型號:Huace-800G

產品尺寸:6寸晶圓或150 x 150mm產品

溫度范圍:RT ~ 800°C

升溫速度:<100℃/s可編程(此溫度不含載盤的升溫速度)

溫度均勻度:±5 °C ≤ 500 ℃ 

±1 % > 500 ℃

溫度控制重復性:±1 °C

溫控方式:PID 溫控


高真空晶圓熱處理退火裝置


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